Kuna valguse levimiskiirus on eri meediumites erinev, on valguse levimise suund muutunud, kui valgus ülekandub ühest keskkonnast teise. Seda nähtust nimetatakse valgusrefaksiks. Valguse murdumist uurivad inimesed pikka aega ja kokkuvõetakse valguse murdumise seadus, valguse põhireegel, millele järgneb refraktsioon.
On-line refraktomeetr on teatud tüüpi kriitiline nurga refraktomeeter, mis põhineb mikroprotsessoritel. Seda kasutatakse vedeliku murdumisnäitaja mõõtmiseks protsessis ja seda kasutatakse laialdaselt rikkeindikaatoris või täieliku juhtimissüsteemi osana. Mikroprotsessoripõhise juhtimise kriitilise nurga protsessi refraktomeetri uusim põlvkond võib EMC E-Scanit otse paigaldada protsessi torudele või mahutitele mõõtmiseks ja kontrollimiseks. Murdumisnäitaja saab kasutada otse murdumisnäitaja (RI) ja suhkru (Brix), tiheduse (SGU), (tahkete osakeste protsentides) osakaalu protsendina ühiku jaoks, et lugeda ja kuvada liini kriitilise nurga refraktomeetrit, mida kasutatakse vedelate toodete kontsentratsioon. EMCE-Scan on EMC poolt käivitatud uusim online-kontsentratsioonimõõtur. Kriitilise nurga murdumisnäitaja mõõtmise tehnoloogia on väga sobiv kõikidele keemilistele vedelatele toodetele nagu kontsentreeritud väävelhape, sulav väävelhape, vesinikkloriidhape jne. EMCE-SCAN-i mitmesuguste paigaldusandurite tõttu sobib paigaldamine peaaegu igas kohas. EMCE-Scan on mikroprotsessoritel põhinev kriitilise nurga refraktomeeter, kuna split design, instrument CPU ja peatehnika plaat ning optilise osa eraldamine, mis muudab süsteemi vastupidavaks kõrgel temperatuuril ja vibratsioonikatsel, parema stabiilsuse, täpsuse ja pikema eluea tõhusam kasutamine. See võib edastada kontsentratsiooni väärtust DCS-ile või PLC-le, samal ajal näidates toote kontsentratsiooni väärtust, mis on süsteemi integreerimise jaoks mugav. Uut kriitilise neutraalse refraktomeetri EMCE-Scan saab torustikus või konteineris otse paigaldada, kontsentratsiooni mõõta ja kontrollida. See võib näidata otseselt kontsentratsiooni protsenti, murdumisnäitaja, suhkrustruktuuri või tahke aine sisaldust. Selle kõrge töökindlus ja kõrge täpsus võib luua otseselt kasutaja protsessi juhtimise väärtuse. Tööparameetrid: 1, murdumisnäitaja mõõtepiirkond: 1.3330-1.5040, väävelhappe kontsentratsioonivahemik: 95.00% -100.00%; 2, kõrgeim töötemperatuur: 150 ° C; 3, signaaliväljund: 4--20ma ja RS232; 4, proovi kokkupuute materjal: kunstlik safiir / 316 roostevaba teras; 5, elektrooniline kuvari töökast kaitse klass: NEMA4X; 6, sensori materjal 316: roostevaba teras, kaitseklass: NEMA4X; 7, sisse ehitatud 2 häiregrupis, sisseehitatud enesediagnostika funktsioon; automaatsed puhastusprotseduurid, 8 prismat (riistvara valikuline), hoia ekraani väljundfunktsiooni; 9, võimsus: 110 / 220VAC, 50 / 60HZ; 10 standardühenduskaabel: 6 meetrit (20 tolli);
Detailid: mõõtmise täpsus + 0,05% / 0,01% ulatuses resolutsioon; 95,00-100.00% (väävelhape); 100,00-110,00% (oleumite) korratavus ja tundlikkus olid paremad kui 0,05% reageerimisaeg: 250 ms - 3 min reguleeritav kontroller; katsestend: <500 ms="" töötemperatuur="" 150="" °="" c="" töörõhul="" 10="" bar="" temperatuuril="" 120="" °="" c,="" kui="" ümbritseva="" keskkonna="" temperatuur="" on="" 0-50="" °="" c="" mikroprotsessor="" intel386sx,="" 25mhz="" ühenduskaabli="" standard="" 6="" meetrit,="" 152="" meetri="" pikkune="" valikuline="" sondi="" materjal="" 316ss,="" sapphire,="" teflon,="" uksed="" viton="" nema4x,="" alloy20="" väljundsignaalid="" 4--20ma="" ja="" 0-10vdc="" valikuline:="" 4-20ma="" isolatsioon="" või="" 0-20-20-isolatsiooniga="" toiteallikas="" 110="" 220vac,="" 50="" 60hz,="">
